在建中的系列湿电子化学品
Electronic chemical
IPA

清洗剂:异丙醇(IPA)

应用 :半导体/液晶/OLED清洁剂

PGMEA

稀释剂:丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)

应用:半导体/液晶显示器/OLED稀释剂、半导体和显示器用光刻胶溶剂、半导体用硬膜自旋溶剂

PM

溶剂:丙二醇单甲醚 (PM)

应用: 半导体/液晶显示器/OLED稀释剂、半导体光刻胶溶剂

JPS-1300

JPS-1300:正胶光刻胶剥离液

应用:铝板基的IC、FPD、Bump和MEMS行业中的正胶正光刻胶剥离工艺而设计的。 由于JPS1300具有稳定的化学性能和相当强的清洗性能,因此被广泛应用于各种光刻胶的批量溶解和喷涂设备。

JWT-73

稀释剂:JWT-73 光刻胶稀释剂

应用:替代“典型”光刻胶稀释剂的候选材料,作为PGMEA独家或其他混合溶剂在半导体和显示行业。Jaewon根据其质量要求和应用,提供不同等级的JWT-73。

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